Departmental Bulletin Paper 強磁界トランスファーカーブによる薄膜磁気ヘッドの加工損傷評価
Evaluation of thin film head durability against nanoscale scratches using high field transfer curves

田中, 秀明

50 ( 1 )  , pp.1 - 12 , 2016-03-31 , 湘南工科大学
ISSN:09192549
NCID:AN10400308
Description
HDD用薄膜磁気ヘッド等に用いられるGMR素子の研磨加工面の機械的ストレスと磁気特性の関係を検討した。GMR素子表面を原子間力顕微鏡の針を用いて引掻き試験を行い、GMR素子の磁気特性のひとつである磁気抵抗変化率(MR比)が引掻き試験後に低下することを明らかにした。また,研磨加工面をイオンビームエッチング(IBE)することでMR比がほぼ回復することが分かった。更に,回復に必要なIBE量は研磨加工面の最大谷深さに比例することを明らかにした。これは,有限要素法解析の結果より,研磨加工面の塑性ひずみ層が減少したためと考えられる。
We investigated the durability of giant magnetoresistive (GMR) heads to nanoscale scratches created during the lapping process. Analysis using high-field transfer curves after deliberate scratching with an atomic force microscope (AFM) identified changes in the magnetization of the head and a reduction in pinning strength,which is a magnetic performance indicator. Additionally, finite element method (FEM) analysis suggested that the overall effects on the GMR head following nanoscale scratching increased with scratch depth.
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