Presentation EUVリソグラフィにおけるレジスト露光過程の統計的性質のモデリング

佐々木, 明  ,  石野, 雅彦  ,  錦野, 将元  ,  前川, 康成

2018-03-20
Description
EUVリソグラフィで重要な高感度、高解像度レジストの開発のために、メタルレジストの露光の特性をパーコレーションモデルで解析することを試みた。パターンの形成には閾値があること、なめらかなパターンを形成するためには閾値の3倍程度の照射線量が必要なことを示す結果得られた。
第65回応用物理学会春季学術講演会

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