Journal Article ガフクロミックフィルムHD-V2のγ線応答曲線を用いたイオンビームの相対強度分布測定法

石坂, 知久  ,  百合, 庸介  ,  上松, 敬  ,  湯山, 貴裕  ,  清藤, 一  ,  奥村, 進

66 ( 7 )  , pp.251 - 258 , 2017-07 , 日本アイソトープ協会
ISSN:0033-8303
Description
ガフクロミックフィルム(Gafchromic film, Ashland製)は,主に医療分野でX線・γ 線の線量分布測定に使用され,イオンビームの強度分布測定にも応用されている。高線量用モデルHD-V2は,感受層が薄く,表面保護層がないため,飛程が短いイオンビームの測定にも適用可能である。しかし,その線量応答は非線形であり,イオン種やエネルギーによる特性の違いが不明であることから,ビーム強度分布測定に利用するためにはその都度,吸光度のフルエンス応答曲線を取得する必要があった。そこで,各種イオンビームの応答曲線が60Coγ線の線量応答曲線に類似していることに着目し,ビーム強度分布の簡便な測定を可能とすることを目的として,γ線の線量応答曲線から直接イオンビームの相対強度分布を求める方法を考案し,実証実験を行った。60Coγ線といくつかのイオンビーム(線エネルギー付与:5.5 keV/μm~11 MeV/μm)において,フラットベッドスキャナES-10000Gを用いた測定の結果,イオン照射応答はγ線照射応答曲線の形状に一致し,フィッティングの良い吸光度範囲の上限はR色成分で0.7,G色成分で0.5程度であることを明らかにした。これにより,イオン種やエネルギーごとのフルエンス応答曲線を取得することが不要となり,各種イオンビームの簡便な相対強度分布測定が可能となった。

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