Presentation 従来型赤外分光と顕微分光との相互比較

上田, 隆裕  ,  楠本, 多聞  ,  池永, 龍之介  ,  安田, 修一郎  ,  小田, 啓二  ,  北村, 尚  ,  小平, 聡  ,  山内, 知也

2015-03-30
Description
重イオン照射による潜在飛跡形成機構の解明のために赤外分光分析が有効である。これまでHIMACの中エネルギー照射室の利用を前提にして、分析視野が直径1cmの従来型赤外分光器を使用してきた。物理汎用ビームラインでの高エネルギー照射では十分なフルエンスを得るには数mm程度に絞ったビームを使うことになり、それに応じて顕微分赤外光システムが導入された。本研究の目的は双方の異なるシステムから得られる結果の比較である。放射線損傷を分析するために、ビスフェノールA型ポリカーボネート(PC)薄膜に高フルエンスのイオンビームを照射した。得られた結果には大きな差異は見られず、整合性のある結果となった。
第29回固体飛跡検出器研究会

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