会議発表論文 ウェットエチングを用いた<i>β</i>-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>(100)基板表面のSi不純物除去

李, 政洙  ,  Lee, Jung-Soo  ,  若林, 諒  ,  Wakabayashi, Ryo  ,  吉松, 公平  ,  Yoshimatsu, Kohei  ,  大友, 明  ,  Ohtomo, Akira

2018-03

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