学術雑誌論文 Effect of RF power on the properties of intrinsic hydrogenated amorphous silicon passivation layer deposited by facing target sputtering

白取, 優大  ,  Shiratori, Yuta  ,  ファリスアキラ, ビンモハマドズルキフリ  ,  Faris Akira, Bin Mohd Zulkifly  ,  中田, 和吉  ,  Nakada, Kazuyoshi  ,  宮島, 晋介  ,  Miyajima, Shinsuke

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