学術雑誌論文 Performance Improvement of HfS2 Transistors by Atomic Layer Deposition of HfO2

金澤, 徹  ,  Kanazawa, Toru  ,  雨宮, 智宏  ,  Amemiya, Tomohiro  ,  UPADHYAYA, VIKRANT  ,  Upadhyaya, Vikrant  ,  石川, 篤  ,  Ishikawa, Atsushi  ,  田中, 拓男  ,  Tanaka, Takuo  ,  宮本, 恭幸  ,  MIYAMOTO, YASUYUKI

このアイテムのアクセス数:  回

その他の情報