会議発表論文 固相成長法を用いた強誘電体HfO2 基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価

三村, 和仙  ,  Mimura, Takanori  ,  片山, きりは  ,  Katayama, Kiriha  ,  清水, 荘雄  ,  Shimizu, Takao  ,  舟窪, 浩  ,  FUNAKUBO, HIROSHI  ,  内田, 寛  ,  Uchida, Hiroshi  ,  木口, 賢紀  ,  Kiguchi, Takanori  ,  今野, 豊彦  ,  Konno, Toyohiko

2016-01

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