Conference Paper 斜方晶相を含むエピタキシャルHfO2 基薄膜の作製と評価

片山, きりは  ,  Katayama, Kiriha  ,  清水, 荘雄  ,  Shimizu, Takao  ,  白石, 貴久  ,  Shiraishi, Takahisa  ,  木口, 賢紀  ,  Kiguchi, Takanori  ,  今野, 豊彦  ,  Konno, Toyohiko  ,  内田, 寛  ,  Uchida, Hiroshi  ,  舟窪, 浩  ,  FUNAKUBO, HIROSHI

2015-05

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