会議発表論文 Substrate Noise Isolation Improvement by Helium-3 Ion Irradiation Technique in a Triple-well CMOS Process

李, 寧  ,  li, ning  ,  平野, 拓一  ,  Hirano, Takuichi  ,  Pang, Jian  ,  Jian, Pang  ,  ウー, ルイ  ,  Wu, Rui  ,  岡田, 健一  ,  Okada, Kenichi  ,  松澤, 昭  ,  Matsuzawa, Akira

ICD2015-84pp.75 - 80 , 2015-12

このアイテムのアクセス数:  回

その他の情報