|
VCSELのキャリア閉じ込め応用に向けたイオン注入混晶化法の評価VCSELのキャリア閉じ込め応用に向けたイオン注入混晶化法の評価 "Characterization of ion implantation quantum well intermixing method VCSELのキャリア閉じ込め応用に向けたイオン注入混晶化法の評価 |
"/森脇, 翔平/"森脇, 翔平 ,
"/Moriwaki, Shouhei/"Moriwaki, Shouhei ,
"/齋藤, 季/"齋藤, 季 ,
"/Saito, Minoru/"Saito, Minoru ,
"/國貞, 彰吾/"國貞, 彰吾 ,
"/Kunisada, Syougo/"Kunisada, Syougo ,
"/宮本, 智之/"宮本, 智之 ,
"/Miyamoto, Tomoyuki/"Miyamoto, Tomoyuki