学術雑誌論文 Spin accumulation in Si channels using CoFe/MgO/Si and CoFe/AlOx/Si tunnel contacts with high quality tunnel barriers prepared by radical-oxygen annealing

悪七, 泰樹  ,  Akushichi, Taiju  ,  高村, 陽太  ,  Takamura, Yota  ,  周藤, 悠介  ,  Shuto, Yusuke  ,  菅原, 聡  ,  SUGAHARA, SATOSHI

117 ( No. 17 ) 2015-05 , AIP Publishing LLC

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