会議発表論文 中国における商標悪意出願に対する救済手段
Remedies against the Trademark Malicious Applicated in China

胡, 勇  ,  星野, 豊

2017-12 , 一般社団法人日本知財学会 , Intellectual Property Association of Japan
NII書誌ID(NCID):BB02722572
内容記述
日本知財学会第15回年次学術研究発表会 日程:2017年12月2日(土)、12月3日(日) 場所:国士舘大学 世田谷キャンパス 梅ヶ丘校舎(34号館)東京都世田谷区世田谷4-28-1 協賛:日本弁理士会 後援:独立行政法人工業所有権情報・研修館、一般社団法人日本知的財産協会
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