学術雑誌論文 Molecular dynamics simulations of Si etching in Cl- and Br-based plasmas: Cl(+) and Br(+) ion incidence in the presence of Cl and Br neutrals

Nakazaki, Nobuya  ,  Takao, Yoshinori  ,  Eriguchi, Koji  ,  Ono, Kouichi

118 ( 23 ) 2015-12-18 , AIP Publishing
ISSN:0021-8979
NII書誌ID(NCID):AA00693547
本文を読む

http://repository.kulib.kyoto-u.ac.jp/dspace/bitstream/2433/203166/1/1.4937449.pdf

このアイテムのアクセス数:  回

その他の情報